Тонкослойные модули

Тонкослойные модули

ООО "БМТ" является производителем тонкослойных модулей для оснащения горизонтальных, вертикальных и радиальных отстойников, осветлителей, камер хлопьеобразования в процессах очистки природных и сточных вод. Разработанная конструкция тонкослойных модулей имеет небольшую массу, гарантирует их прочность, химическую и биологическую стойкость, легкость монтажа и обслуживания.

Тонкослойные мoдули применяются для интенсификации процессов осаждения и выделения из воды механических и коллоидных примесей за счет увеличения контактной поверхности осаждения и уменьшения высоты осаждения взвеси.

Тонкослойные модули устанавливаются как на вновь строящихся, так и на модернизируемых очистных сооружениях различной производительности для очистки коммунальных, ливневых, промышленных стоков, а также для промышленной и питьевой водоподготовки.

Тонкослойные модули устанавливаются в верхней части отстойных сооружений с помощью несущих конструкций, угол наклона элементов равный 600 или 55о обеспечивает эффективное сползание осадка в шламоотводящие окна (шламосборник). Кроме того, применение тонкослойных модулей позволяет значительно сократить продолжительность отстаивания и объем отстойников.

Технические характеристики:

Поверхность седиментации, (м2/м3) Угол 60° 11
Угол 55° 13
Высота модуля, (мм)   500-2000
Высота стандартного модуля, (мм)   1000
Расстояние между профилями модуля, (мм)   45(+/-1)
Гидравлический радиус, (см)   1,5
Материал   ПВХ
Макс. раб. Температура, (°C/ПВХ)   55
Вес (сухого модуля), (кг/м3)   80 (ПВХ)

Количество сотоблоков в тонкослойном модуле определяется размерами отстойника.

Разработанная конструкция тонкослойных модулей имеет небольшую массу, гарантирует необходимую надежность, прочность, химическую и биологическую стойкость, легкость монтажа и обслуживания.

Осаждение на тонкослойных модулях дает значительные преимущества в области разделения твердых веществ и жидкости, а также других суспензий.

Система тонкослойных модулей обеспечивает:

  • ламинарный поток
  • значительное уменьшение размеров отстойных резервуаров
  • повышение производительности отстойников до 50%
  • повышение степени очистки воды по взвешенным веществам
  • увеличение эффективности использования объема отстойников
  • площадь проекции осаждающей поверхности в 5-15 раз больше площади основанияli>
  • оптимальную эффективность благодаря малому гидравлическому радиусуli>
  • использование для резервуара любого размера и формы (вкл. радиальные)
  • необходимый наклон профилей

Оставьте заявку, и наш специалист свяжется с Вами для уточнения деталей

Нажимая кнопку, я принимаю соглашение о конфиденциальности и соглашаюсь с обработкой персональных данных